講演会　「中国の先端科学技術動向と日中協力のあり方のご報告」

2013年10月21日 事務局 永崎隆雄

日中科学技術交流協会では、2013年10月15日（火）、標記講演会を下記のとおり開催しました。
24 名の方が参加されました。

１．場所 東京大学 本郷 山上会館 地下A002 号室
２．日時 :2013 年10 月15 日（火）
３．テーマと講師
（１）中国の科学技術の動向と日中協力の在り方
　　ＪＳＴ研究開発戦略センター上席フェロー、東大先端科学技術研究センター特任教授） 林 幸秀氏
（２）中国のトップクラス電子材料研究動向と日本のあり方
　１）上海・蘇州の研究所 兵庫県立大学准教授 渡邊 健夫 氏
　２）民間企業から見た評価 東レ 特別研究員 富川 真佐夫氏
　３）物つくり屋が見た中国科学院微電子研の印象 豊橋技術大学教授 柴崎 一郎 氏
　４）北京の研究所 物材研究機構 微細加工Platform長 小出 康夫 氏

各講師の講演のポイントは、以下の通りである。
講師の発表内容はテーマをクリックしてPDFをご覧ください。

林氏
① 日中協力は中国のためでなく、日本のためであり、日本の人材資金のジリ貧から救う唯一の道である。
②人材交流からはじめ、共同研究や共同開発へ進むべきである。
③中国の大学の教員は日本のように外国人を雇うのではなく、自校の学生を留学させ、帰国した人を採用。
　海外留学生を呼び戻すことで海外技術と人脈を一挙に獲得している。

渡邊氏
①第3回日中電子材料シンポジウムで訪問した研究所の内上海、蘇州の研究所が総会評価された。
②現在の中国の半導体技術は、微細加工、MEMS の観点から日本と比べて10 年程度遅れている。
③10年前に中国では、クリーンルームには壁がなく、カーテンで仕切られていたことを思うと急激な進歩をしている。
④今後10年後には、完全に追い抜かれることを覚悟せねばならない。
⑤日本が今後も技術立国であり続けるためには、新しい技術開発に選択集中する必要がある。
⑥このためには、より一層に産学官連携を図る必要がある。これには、組織間の壁を低くし、真の連携を図る必要がある。

東レの富川真佐夫氏
① 中国科学院、清華大学は世界最先端からさほど遠くはない。インテルから2年の遅れ。自分のレベルを知っている。
② 研究成果を確実に事業に結びつける力、官民一体のパイプができている。
③ 日本の電子材料関係企業は現在圧倒的に強い。市場はアジアで確実に材料技術は出て行く。不調企業の優秀な研究者の雇用確保をしないと日本のキーパーソンは移動。間違いなく10年後は日韓の差がなくなり、日中も同じ。日本企業と個人を守る事が大切。化学工業が日本から出て行く危機が来ている。
④東レの戦略は
１）素材原料の入手が容易で安価なので中国を製造拠点とする。人件費が安いは過去の話。
２）電子材料は中国市場の探索と原料合成。
３）高機能品の大消費地 人口が日本より多いだけでなく日本より富裕層が多い。市場としても大きい。

柴崎氏
① 人口大国中国がエネルギー大量消費等の日本と同じ道はたどれず、新たな問題解決法が必要。
② 2000年ココム規制で中国の電子材料研究はだいぶ遅れていた。
③ ココム規制が無くなり、中国人留学生が帰国し始め、急速に電子材料は発展した。13 年前とは雲泥の差で驚いた。中国人の意欲の高さに驚いた。10年後は追い越されている？
④ 物づくりは先ず材料、次にデバイス、部品、最後にシステム、商品と進むが日本は材料とデバイス部品が強く、システム商品は弱い。しかし、産業の寿命は材料デバイスが長くシステムは短い。日本はシステムでは失敗したが材料では失敗していない。
⑤ 工学研究の原点は最後の目標が常に見えることが大切で、中国人の目線に工学の原点を見た。
⑥ 今後の日本は高い賃金を支える技術開発が必要。いつまでもあると思うな親と技術。

小出氏
① 科学院微電子研究所及び清華大学の施設研究内容の紹介
② 中国科学院微電子研究所
　国の機関として中国Si-ULSI 技術開発の中心
　国主導のトップダウン啓発，産業育成、革新のプラットフォーム役
　西側諸国のキャッチアップ役
③ 清華大微電子研究所1.
　ナノマイクロエレクトニクス研究・人材育成の中心
④ 清華大材料学院
　中国の電子材料研究・人材育成の中心 トヨタと連携

４．講演会風景

講演会場の様子

　　　　　林 幸秀講師 　　　　　　　　　　堂山理事 　　　　　藤崎副理事長 　　　山脇副理事長 　　　　　　　　柴崎講師

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　懇親会 参加者

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2012年6月12日更新